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美国正在推动荷兰ASML禁止向中国销售DUV光刻机，从而阻止中国半导体产业的崛起。媒体表示，如果ASML同意，这将继续扩大禁止进入中国的芯片制造设备的范围和类别，这可能对从中国芯片制造商造成严重打击。
但是据了解，国产DUV光刻机产品很快就能成批推出、规模采用。上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020年就说到的，一定能用于规模量产7纳米芯片，而且良品率还能达到业界标准吧，梁孟松当时说的是只有制造5、3纳米的芯片才“只待”、也就是只需EUV光刻机，梁孟松的话自然是可信的。
放眼未来，半导体的产业链的可靠性和安全性都值得怀疑，国内应该引起足够重视。
